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Eksma FEMTOLINE激光分束器-4

簡要描述:Eksma FEMTOLINE激光分束器-4
Femtoline激光分束器鍍膜@ 1030 nm,800 nm,515 nm,400 nm,343 nm,266 nm。激光損傷閾值:> 100 mJ / cm2,50 fsec脈沖,典型值為800 nm。

  • 產品品牌:Eksma
  • 廠商性質:代理商
  • 更新時間:2021-03-17
  • 訪  問  量:923

詳細介紹

品牌Eksma價格區(qū)間面議
組件類別光學元件應用領域醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合

Eksma FEMTOLINE激光分束器-4


Eksma FEMTOLINE激光分束器-4

Femtoline激光分束器鍍膜@ 1030 nm,800 nm,515 nm,400 nm,343 nm,266 nm。激光損傷閾值:> 100 mJ / cm2,50 fsec脈沖,典型值為800 nm。

分束器將平均偏振激光束分成彼此分開90°的兩束。

標準基板厚度為3mm。如果您需要更薄的基板,請從Precision Thin Round Windows中選擇。

 

EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業(yè),醫(yī)學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業(yè)務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業(yè)知識。

公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

我們的激光組件工作在從UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光譜范圍內,并在太赫茲(1-5 THz)范圍內工作,可在科學,工業(yè),醫(yī)學和美學領域的不同激光和光子學應用中使用,軍事和航空航天市場。

EKSMA光學拋光設備專門從事由BK7,UVFS,Infrasil,Suprasil,CaF2以及DKDP,KDP,LBO,BBO,ZnGeP2晶體制成的平面光學器件的加工和終拋光,而大功率激光應用需要高質量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設備,球面,軸錐和非球面鏡片CNC制造設備,BBO,DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設備,超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術部門和質量控制設備。

公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。

該公司可根據客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學和晶體組件。但是,我們還提供了廣泛的標準目錄產品,可以快速實現現成的交付。

產品型號

波長-343 nm

型號

材料

尺寸

波長

反射

透射

偏振

AOI

031-7620A

UVFS

ø12.7 x 3 mm

343 nm

20±3%

80±3%

Average

45°

031-7620P

UVFS

ø12.7 x 3 mm

343 nm

20±3%

80±3%

P-pol

45°

031-7620S

UVFS

ø12.7 x 3 mm

343 nm

20±3%

80±3%

S-pol

45°

031-7630A

UVFS

ø12.7 x 3 mm

343 nm

30±3%

70±3%

Average

45°

031-7630P

UVFS

ø12.7 x 3 mm

343 nm

30±3%

70±3%

P-pol

45°

031-7630S

UVFS

ø12.7 x 3 mm

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30±3%

70±3%

S-pol

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031-7650A

UVFS

ø12.7 x 3 mm

343 nm

50±3%

50±3%

Average

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UVFS

ø12.7 x 3 mm

343 nm

50±3%

50±3%

P-pol

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031-7650S

UVFS

ø12.7 x 3 mm

343 nm

50±3%

50±3%

S-pol

45°

031-7670A

UVFS

ø12.7 x 3 mm

343 nm

70±3%

30±3%

Average

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031-7670P

UVFS

ø12.7 x 3 mm

343 nm

70±3%

30±3%

P-pol

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031-7670S

UVFS

ø12.7 x 3 mm

343 nm

70±3%

30±3%

S-pol

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031-7680A

UVFS

ø12.7 x 3 mm

343 nm

80±3%

20±3%

Average

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UVFS

ø12.7 x 3 mm

343 nm

80±3%

20±3%

P-pol

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UVFS

ø12.7 x 3 mm

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80±3%

20±3%

S-pol

45°

032-7620A

UVFS

ø25.4 x 3 mm

343 nm

20±3%

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Average

45°

032-7620P

UVFS

ø25.4 x 3 mm

343 nm

20±3%

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P-pol

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032-7620S

UVFS

ø25.4 x 3 mm

343 nm

20±3%

80±3%

S-pol

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UVFS

ø25.4 x 3 mm

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Average

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UVFS

ø25.4 x 3 mm

343 nm

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UVFS

ø25.4 x 3 mm

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S-pol

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032-7650A

UVFS

ø25.4 x 3 mm

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50±3%

Average

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UVFS

ø25.4 x 3 mm

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032-7650S

UVFS

ø25.4 x 3 mm

343 nm

50±3%

50±3%

S-pol

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ø25.4 x 3 mm

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Average

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UVFS

ø25.4 x 3 mm

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P-pol

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ø25.4 x 3 mm

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70±3%

30±3%

S-pol

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032-7680A

UVFS

ø25.4 x 3 mm

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80±3%

20±3%

Average

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032-7680P

UVFS

ø25.4 x 3 mm

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P-pol

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032-7680S

UVFS

ø25.4 x 3 mm

343 nm

80±3%

20±3%

S-pol

45°

035-7620A

UVFS

ø50.8 x 8 mm

343 nm

20±3%

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Average

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P-pol

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035-7620S

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ø50.8 x 8 mm

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Average

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P-pol

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S-pol

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035-7650A

UVFS

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Average

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50±3%

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P-pol

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035-7650S

UVFS

ø50.8 x 8 mm

343 nm

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S-pol

45°

035-7670A

UVFS

ø50.8 x 8 mm

343 nm

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Average

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035-7670P

UVFS

ø50.8 x 8 mm

343 nm

70±3%

30±3%

P-pol

45°

035-7670S

UVFS

ø50.8 x 8 mm

343 nm

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S-pol

45°

035-7680A

UVFS

ø50.8 x 8 mm

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Average

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035-7680P

UVFS

ø50.8 x 8 mm

343 nm

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P-pol

45°

035-7680S

UVFS

ø50.8 x 8 mm

343 nm

80±3%

20±3%

S-pol

45°

 

基材

材料

UV級熔融石英

S1表面平整度

633 nm時為λ/ 10

S1表面質量

20-10表面光潔度(MIL-PRF-13830B)

S2表面平整度

633 nm時為λ/ 10

S2表面質量

20-10表面光潔度(MIL-PRF-13830B)

直徑公差

+0.00mm-0.12mm

厚度公差

±0.25

平行性

30弧秒

倒角

在45°典型值為0.3mm

 

鍍膜

技術

電子束多層電介質

附著力和耐久性

符合MIL-C-675A。 不溶于實驗室溶劑

通光孔徑

超過中心直徑的85%

入射角

45±3°

背面防反射鍍膜

R <0.5%

激光損傷閾值

> 100 mJ / cm2,50 fsec脈沖,典型800 nm

EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業(yè),醫(yī)學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業(yè)務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業(yè)知識。

公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

我們的激光組件工作在從UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光譜范圍內,并在太赫茲(1-5 THz)范圍內工作,可在科學,工業(yè),醫(yī)學和美學領域的不同激光和光子學應用中使用,軍事和航空航天市場。

EKSMA光學拋光設備專門從事由BK7,UVFS,Infrasil,Suprasil,CaF2以及DKDP,KDP,LBO,BBO,ZnGeP2晶體制成的平面光學器件的加工和終拋光,而大功率激光應用需要高質量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設備,球面,軸錐和非球面鏡片CNC制造設備,BBO,DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設備,超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術部門和質量控制設備。

公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。

該公司可根據客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學和晶體組件。但是,我們還提供了廣泛的標準目錄產品,可以快速實現現成的交付。

EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業(yè),醫(yī)學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業(yè)務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業(yè)知識。

公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

我們的激光組件工作在從UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光譜范圍內,并在太赫茲(1-5 THz)范圍內工作,可在科學,工業(yè),醫(yī)學和美學領域的不同激光和光子學應用中使用,軍事和航空航天市場。

EKSMA光學拋光設備專門從事由BK7,UVFS,Infrasil,Suprasil,CaF2以及DKDP,KDP,LBO,BBO,ZnGeP2晶體制成的平面光學器件的加工和終拋光,而大功率激光應用需要高質量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設備,球面,軸錐和非球面鏡片CNC制造設備,BBO,DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設備,超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術部門和質量控制設備。

公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。

該公司可根據客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學和晶體組件。但是,我們還提供了廣泛的標準目錄產品,可以快速實現現成的交付。

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